Ätzbarriere

Hierzu wurde vorgeschlagen, das Substrat mit der fertig entwickelten, bildhaft strukturierten Photoresistbeschichtung in geeigneter Weise mit bestimmten Alkylverbindungen des Magnesiums oder Aluminiums zu behandeln, um auf diese Weise die genannten Metalle als Ätzbarriere in das Resistmaterial einzubringen (US-A-4,690,838).

For this purpose, it has been proposed to treat the substrate with the finished, developed, image-structured photoresist coating in a suitable way with specific alkyl compounds of magnesium or aluminum, in order to introduce the given metals in the resist material in this way as etching barriers (See U.S. Pat. No. 4,690,838).