Belichtungsdauer

Synchrotron-Belichtungssystem, umfassend: einen Synchrotron-Ring (1) zum Emittieren von Synchrotronstrahlung; ein Belichtungsgerät (2A) zum Durchführen von Belichtung unter Verwendung der Synchrotronstrahlung; eine Abschirmwand (6), die zwischen dem Synchrotron-Rng (1) und dem Belichtungsgerät (2A) angeordnet ist, zum Abschirmen schädlicher elektromagnetischer Wellen von dem Synchrotron-Ring (1); einen Strahlanschluß (3A) zum Verbinden des Synchrotron-Rings (1) und des Belichtungsgeräts (2A) durch die Abschirmwand (6); einen Röntgenstrahlen-Reflexionsspiegel (9A), der in dem Strahlanschluß (3A) angeordnet ist, zum Reflektieren der Synchrotronstrahlung; einen ersten Verschluß (24A), der zwischen dem Synchrotron-Ring (1) und dem Spiegel (9A) angeordnet ist, zum Abschirmen von mindestens ?-Strahlen, die in der SynchrotronStrahlung während einem Anlaufvorgang des Synchrotron-Rings (1), während dem Elektronen in den Synchrotron-Ring (1) injiziert werden, enthalten sind, wobei der erste Verschluß so angeordnet ist, daß kein Winkel vorliegt, in dem Strahlung von dem Synchrotron-Ring (1) sowohl durch die Abschirmwand (6) als auch den ersten Verschluß (24A) durchgehen kann und daß keine Position auf der dem Belichtungsgerät zugewandten Seite der Abschirmwand (6) vorliegt, von der aus der Synchrotron-Ring (1) gesehen werden kann; einen zweiten Verschluß (25A), der zwischen dem ersten Verschluß (24A) und dem Spiegel (9A) angeordnet ist, zum Abschirmen von in der Synchrotron-Strahlung enthaltenen Röntgenstrahlen, um vor einem Belichtungsverfahren den Spiegel (9A) zu schützen, wobei der erste Verschluß (24A) schwerer ist und eine höhere Abschirmkapazität als der zweite Verschluß (25A) hat; einen dritten Verschluß (11A), der in dem Belichtungsgerät (2A) angeordnet ist, zum Abschirmen von Röntgenstrahlen, um die Belichtungsdauer während eines Belichtungsverfahrens einzustellen; ein erstes Steuerungsgerät (21) zum Steuern des Synchrotron-Rings (1) und des ersten Verschlusses (24A), wobei das erste Steuerungsgerät (21) den ersten Verschluß (24A) während dem Anlaufvorgang des Synchrotron-Rings (1), bei dem Elektronen in den Synchrotron-Ring (1) injiziert werden, schließt und den ersten Verschluß (24A) während einem Belichtungsverfahren öffnet; und ein zweites Steuerungsgerät (22A) zum Steuern des Belichtungsgeräts (2A), des zweiten Verschlusses (25A) und des dritten Verschlusses (11A), wobei das zweite Steuerungsgerät (22A) den zweiten Verschluß (25A) während dem Belichtungsverfahren öffnet und die Belichtungsdauer während dem Belichtungsverfahren durch Verwendung des dritten Verschlusses (11A) einstellt .

An SOR exposure system, comprising: an SOR ring (1) for emitting synchrotron radiation; an exposure apparatus (2A) for performing exposure by using the synchrotron radiation; a shielding wall (6), disposed between the SOR ring (1) and the exposure apparatus (2A), for shielding harmful electromagnetic waves from the SOR ring (1); a beam port (3A) for connecting the SOR ring (1) and the exposure apparatus (2A) through the shielding wall (6); an X-ray reflecting mirror (9A), disposed in the beam port (3A), for reflecting the synchrotron radiation; a first shutter (24A), disposed between the SOR ring (1) and the mirror (9A), for shielding at least ?-rays included in the synchrotron radiation during a start-up operation of the SOR ring (1) in which electrons are injected to the SOR ring (1), wherein the first shutter is arranged such that no angle exists in which radiation from the SOR ring (1) can pass both the shielding wall (6) and the first shutter (24A), and that no position on the exposure apparatus side of the shielding wall (6) exists from which the SOR ring (1) can be seen; a second shutter (25A), disposed between the first shutter (24A) and the mirror (9A), for shielding X-rays included in the synchrotron radiation, to protect the mirror (9A) prior to an exposure process, wherein the first shutter (24A) is heavier and has a shielding capacity higher than the second shutter (25A); a third shutter (11A), disposed in the exposure apparatus (2A), for shielding X-rays to adjust the exposure period during an exposure process; a first control apparatus (21) for controlling the SOR ring (1) and the first shutter (24A), the first control apparatus (21) closing the first shutter (24A) during a start-up operation of the SOR ring (1) in which electrons are injected to the SOR ring (1) and opening the first shutter (24A) during an exposure process; and a second control apparatus (22A) for controlling the exposure apparatus (2A), the second shutter (25A) and the third shutter (llA), the second control apparatus (22A) opening the second shutter (25A) during the exposure process and adjusting the exposure period during the exposure process by using the third shutter (11A).