Drehzentrum

Vertikales Einspindel-Drehzentrum

Vertical single-spindle turning center

Drehzentrum

Center of rotation

Vertikales Drehzentrum

Vertical Turning Center

Vorrichtung nach Anspruch 2, mit einem Drehbetätigungselement (26), das auf der rückwärtigen Fläche des Rückenlehnenabschnitts (22) drehbar angeordnet ist, einem Winkelfestlegungsmechanismus (39), der mit dem Drehbetätigungselement (26) in Eingriff steht, um jeweils eine Vielzahl von Drehwinkeln des Drehbetätigungselements (26) festzulegen, und einem Paar fester Stäbe (36, 38), deren erste Enden entsprechenderweise mit zwei Positionen (34, 35) an dem Betätigungselement (26), zwischen denen sich ein Drehzentrum (27) befindet, verbunden sind und deren zweite Enden entsprechenderweise mit dem Paar Kopfschützer (23) verbunden sind.

A child seat apparatus in accordance with claim 2, further comprising a rotation operating member (26) being rotatably provided on a rear surface of said backrest portion (22), an angle fixing mechanism (39) being engaged with said rotation operating member (26) for fixing a plurality of rotation angles of said rotation operating member (26) respectively, and a pair of rigid rods (3, 38) having first ends being coupled to two positions (34, 35) of said rotation operating member (26) respectively between which a rotation center (27) is located and second ends being coupled to said pair of head guards (23) respectively.

Vorrichtung zum Abscheiden insbesondere kristalliener Schichten auf in einer Prozesskammer (1) der Vorrichtung auf drehantreibbaren Substraten (2) aufliegenden, insbesondere kristallienen Substraten, wobei die Substrathalter (2) das Drehzentrum eines drehantreibbaren Substrathalterträgers (3) angeordnet sind, welche Substrathalter (2) gemeinsam mit dem Substrathalterträger (3) einen Prozesskammerboden (4) bilden, dem eine Prozesskammerdekke (5) mit zentralem Gaseinlassorgan (6) gegenüberliegt, wobei der Zentralbereich (4') des Prozesskammerbodens (5) zufolge einer Beheizung (8) Wärme an ein oder mehrere in die Prozesskammer (1) durch das Gaseinlassorgan (6) eingeleitete gasförmige Ausgangsstoffe abgibt, dadurch gekennzeichnet, dass der Zentralbereich (4') des Prozesskammerbodens (4) relativ zum Substrathalterträger (3) und zur Prozesskammerdecke (5) bzw. zum Gaseinlassorgan (6) drehantreibbar ist.

Apparatus for depositing in particular crystalline layers on in particular crystalline substrates resting on rotationally drivable substrates (2) in a process chamber (1) of the apparatus, the substrate holders (2) being disposed the rotational center of a rotationally drivable substrate holder carrier (3), which substrate holders (2) together with the substrate holder carrier (3) form a process chamber base (4), opposite which there is a process chamber cover (5) with a central gas inlet element (6), the central region (4') of the process chamber base (5) giving off heat to one or more gaseous starting materials introduced into the process chamber (1) through the gas inlet element (6) as a result of heating (8), characterized in that the central region (4') of the process chamber base (4) is rotationally drivable in relation to the substrate holder carrier (3) and the process chamber cover (5) or the gas inlet element (6).

Die Erfindung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Abscheiden, insbesondere kristallinier Schichten auf in einer Prozesskammer der Vorrichtung auf drehantreibbaren Substrathaltern aufliegenden, insbesondere kristallinen Substraten, wobei die Substrathalter um das Drehzentrum eines drehantreibbaren Substrathalterträgers angeordnet sind, welche Substrathalter gemeinsam mit dem Substrathalterträger einen Prozesskammerboden bilden, dem eine Prozesskammerdecke mit zentralem Gaseinlassorgan gegenüberliegt, wobei der Zentralbereich des Prozesskammerbodens zufolge einer Beheizung Wärme an ein oder mehrere in die Prozesskammer durch das Gaseinlassorgan eingeleitete gasförmige Ausgangsstoffe abgibt.

[0003] The invention also relates to an apparatus for depositing in particular crystalline layers on in particular crystalline substrates resting on rotationally drivable substrate holders in a process chamber of the apparatus, the substrate holders being disposed around the rotational center of a rotationally drivable substrate holder carrier, which substrate holders together with the substrate holder carrier form a process chamber base, opposite which there is a process chamber cover with a central gas inlet element, the central region of the process chamber base giving off heat to one or more gaseous starting materials introduced into the process chamber through the gas inlet element as a result of heating.

Kopfunterstützungsmechanismus nach Anspruch 5, wobei jedes Verlagerungselement des Paars Verlagerungselemente (40a, 40b) in Bezug auf die Mittellinie, die zur Längsrichtung des Lastauslegers (20) parallel ist und durch das Drehzentrum des Gleiterunterstützungselements (32) verläuft, symmetrisch angeordnet ist.

The head supporting mechanism according to claim 5, wherein each of the pair of displacement members (40a, 40b) is placed in a symmetric manner with respect to the center line which is parallel to the length direction of the load beam (20) and passes through the center of rotation of the slider supporting member (32).

Kopfunterstützungsmechanismus nach einem der Ansprüche 1 bis 4, wobei ein Verlagerungselement des Paars Verlagerungselemente (40a, 40b) auf jeder Seite des Lastauslegers (20) in Bezug auf eine Mittellinie, die zur Längsrichtung des Lastauslegers parallel ist und durch das Drehzentrum des Gleiterunterstützungselements (32) verläuft, angeordnet ist, - das Paar Verlagerungselemente (40a, 40b) durch ein Paar piezoelektrischer Dünnschichtelemente gebildet ist, und - ein Verlagerungselement (40a) gedehnt werden kann, während das andere Verlagerungselement (40b) kontrahiert wird, sodass die Verlagerungselemente (40a, 40b) relativ zueinander entgegengesetzte Operationen ausführen können.

The head supporting mechanism according to any one of the claims 1 to 4. wherein a displacement member of the pair of displacement members (40a, 40b) is placed on each side of the load beam (20) with respect to the center line which is parallel to the length direction of the load beam and passes through the center of rotation of the slider supporting member (32), - the pair of displacement members (40a, 40b) being constituted by a pair of thin-film piezoelectric members (40a, 40b), and - one displacement member (40a) is capable of being extended while the other (40b) is contracted, so that the displacement members (40a, 40b) are allowed to carry out reverse operations with respect to each other.