Oberflächenbereich

Oberflächenzone ~ 1 nm -> 60% der Teilchen befinden sich im Oberflächenbereich

Surface zone of ~ 1 nm -> 60% of the particles are located in the surface region

Dadurch geht die gewünschte offene Porosität des Formkörpers gerade im Oberflächenbereich regelmäßig verloren.

As a consequence the desired open porosity of the molded body is generally lost precisely in those surface regions at which it is desirable.

Vorzugsweise ist die Härte HV30 im Oberflächenbereich konstant.

Preferably the hardness HV30 in the surface layer is constant.

In Bild 3 sind mikroskopische Bilder aus dem Oberflächenbereich der auf interkristalline Spannungsriß­ korrosion geprüften Proben wiedergegeben.

FIG. 3 comprises micrographs of the surface area of samples tested for intergranular stress corrosion cracking.

Die Oberflächenbereich müssen noch genau abgestimmt werden

The surface area must be coordinated more closely

Verfahren zum Formen eines Werkstücks (20) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, die Ausnehmung (122) räumlich gegenüber einem Bereich der Stempelbasis angeordnet ist, den das Material als erstes berührt, wenn das Material in eine Vertiefung in der Stempelbasis geformt wird; die Ausnehmung in einer Ebene parallel zu der Unterseite des Stempeldeckels (96') einen Querschnitt aufweist, der um einen Prozentsatz kleiner als der Oberflächenbereich der Ausnehmung ist, der etwa gleich dem gewünschten Prozentsatz der Vorverdünnung des Materials ist; und die vorgeformten Abschnitte des Materials um einen Betrag gedehnt werden, der ausreicht, um nicht-vorverdünnte Abschnitte des Materials zu einer Oberfläche einer Vertiefung (92) zu fördern, in die das Material geformt wird, und von der es in Kontakt mit der übrigen Oberfläche der Stempelvertiefung (92) gespannt werden und den gewünschten Dickegrad behalten kann.

A process for forming a part (20) as defined in claim 1, wherein: said recess (122) is located spatially opposite an area of the die base that said material will contact first when said material is formed into a cavity in said die base, said recess has a cross section in a plane parallel to the underside of said die lid (96') that is smaller than the surface area of said recess by a percentage about equal to the desired percentage of prethinning of said material, and said preformed portions of said material are expanded by an amount sufficient to deliver non-prethinned portions of said material to a surface of a cavity (92) into which said material is formed, from which it can be strained into contact with the remaining surface of said die cavity (92) and retain the desired degree of thickness.

Querstrom-Filtrationseinrichtung nach einem der vorhergehenden Ansprüche, bei der der Oberflächenbereich der Ausgangsmaterialdurchgänge (152) 32,8 bis 328 m² pro m³ des Monolithrauminhalts (100 bis 1000 ft² pro ft³) beträgt.

A cross-flow filtration device according to any one of the preceding claims wherein the surface area of the feedstock passageways (152) is 32.8 to 328 m² per m³ of monolith volume (100 to 1000 ft² per ft³).

Eine Anordnung, wie in Anspruch 14, 15 oder 16 beansprucht, in der das Reflektorglied (12) ein Dualband-Mikrowellenreflektor ist, derim Gesamtbereich Eigenschaften zur Reflektion des L-Bandes und in seinem zentralen sehr genauen Oberflächenbereich Eingeschaften zur Reflektion des Ku-Bandes hat.

An assembly as claimed in claim 14, 15 or 16, in which the reflector member (12) is a dual band microwave reflector having overall L-band-reflecting properties and having Ku-band reflecting properties in the central high accuracy surface area thereof.