Silizium-Wafer

Epitaxialer Silizium-Wafer und Herstellungsverfahren dafür

Epitaxial silicon wafer and fabrication method thereof

Beispielsweise kann dazu eine Belichtungsmaschine verwendet werden und das Bauteil in der sonst für Silizium-Wafer vorgesehenen Position fixiert werden.

For example, an exposure machine can be used for this purpose and the component held in the position otherwise intended for silicon wafers.

Das mit der Klebstoffschicht versehene mikrostrukturierte Bauteil wird in einer modifizierten Belichtungsmaschine an der Stelle fixiert, an welcher üblicherweise ein Silizium-Wafer liegt.

[0076] The microstructured component provided with the adhesive layer is held in a modified exposure machine at the point at which a silicon wafer is usually located.

Nachfolgend wird eine Ausführungsform des Lotdepotträgers anhand der Zeichnungen näher erläuter: Es zeigen: zeigt einen Lotdepotträger 10 mit einer hier aus einem Silizium-Wafer bzw. aus einem Waferteilstück gebildeten Trägerstruktur 11, auf deren Oberfläche eine Beschichtung 12 angeordnet ist.

BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS An embodiment of the solder deposit carrier will be explained in detail below with reference to the drawings, where FIG. 1 shows a solder deposit carrier before the electroplating of solder deposits, FIG. 2 the solder deposit carrier after the electroplating of the solder deposits, FIG. 3 the solder deposit carrier in an overlap ply with a substrate to be soldered, FIG. 4 the solder deposit carrier during the transfer of the solder deposits to terminal areas of the substrate and FIG. 5 the substrate with solder bumps applied to the terminal areas. DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION FIG. 1 shows a solder deposit carrier 10 with a carrier structure 11 here formed from a silicon wafer or from a wafer part unit, on the surface of which a coating 12 is disposed.