resistively

resistively

resistiv

Sample annealing in UHV was carried out by direct current or electron bombardment heating. The sample temperature was measured by an infrared pyrometer. For transfer doping, F4-TCNQ molecules (7,7,8,8-Tetracyano- 2,3,5,6-tetra°uoroquinodimethane, Sigma Aldrich, 97% purity) were deposited on the graphene surfaces by thermal evaporation from a resistively-heated crucible in UHV.

Beispiel Glühen im UHV erfolgte durch
 Gleichstrom oder Elektron Bombardement Heizung. Die Probentemperatur wurde gemessen.
 durch ein Infrarot-Pyrometer. Für die Übertragung doping, F4-TCNQ-Moleküle (7.788 - Tetracyano-
 2.356-Tetra ° Uoroquinodimethane, Sigma-Aldrich, 97 % Reinheit) wurden abgelagert, auf die
 Graphen Oberflächen durch thermische Verdampfung von Tiegel im UHV resistively erwärmt.