to anneal

to anneal

annealen

Hi Terry We have started to anneal the rubber rings with 1 hour at 150°. Also, the first rubber rings go on Sunday on the night shift by special trip to Poland. There must be a release of the batch of rubber to bring the customers not still here quickly. With kind regards

Wir Hallo Terry haben begonnen, die Gummiringe mit 1 Stunde bei 150 ° Tempern. Auch gehen die ersten Gummiringe am Sonntag in der Nachtschicht durch spezielle Reise nach Polen. Es muß eine Freigabe dieser Charge aus Gummi, die Kunden nicht noch hier schnell bringen. Mit freundlichen Grüßen

 Try to anneal Binder film for it to lay flat

 Versuchen, Binder Film dafür zu flach legen Tempern

I would be inclined to anneal it first

Ich würde geneigt sein, es zuerst zu glühen werden

to anneal too rapidly while

um zu schnell Tempern zwar

to anneal

kühlen

To anneal just heat to a glowing red with a brushy flame from a torch and quench in cold water or allow the metal to cool . If you don’t have a torch you can use a gas stove; just set the metal on the rack over the burner and heat until glowing then allow the metal to cool

Tempern nur Wärme zu einer leuchtenden roten mit einer brushy Flamme von einer Fackel und stillen in kaltem Wasser oder das Metall abkühlen lassen. Wenn Sie keine Taschenlampe können Sie einen Gasherd verwenden; setzen Sie einfach das Metall auf dem Gestell über den Brenner und Hitze bis glühend dann das Metall abkühlen lassen

The substrate remained at 1000 °C in a Ar/H2 flow for 20 min to anneal the Ni film. The CVD growth of FLG was conducted at 960 ~ 970 oC, using a mixture of gases with a composition (CH4 : Ar : H2 = 250 : 1000 : 4000 sccm). The reaction time was varied from 30 s to 7 min. After the CVD reaction, the sample in the quartz tube was cooled down to 400 oC at the rate 8.5 oC/min, under a flow of argon and hydrogen. Then the gas valve for hydrogen was closed and the sample was cooled to room temperature under argon atmosphere.

Das Substrat blieb bei 1000 ° C in einer Ar/H2 Strömung für 20 min, um die Ni-Film annealen. Die CVD-Wachstum von FLG wurde bei 960 ~ 970 ° C durchgeführt, wobei eine Mischung von Gasen mit einer Zusammensetzung (CH4: Ar: H2 = 250: 1000: 4000 sccm). Die Reaktionszeit wurde von 30 s bis 7 min variiert. Nach der CVD-Reaktion wurde die Probe in das Quarzrohr auf 400 oC in Höhe 8,5 oC / min abgekühlt, unter einem Strom von Argon und Wasserstoff. Dann wird das Gasventil für Wasserstoff wurde geschlossen und die Probe wurde auf Raumtemperatur unter Argon-Atmosphäre abgekühlt wird.