Gesamtheiten

Verfahren zum Steuern einer Plasmatafel gemäß Anspruch 6, wobei in der Plasmatafel die Adressierungs- und Aufrechterhaltungselektroden (Y1 bis Y8) wenigstens zwei Gesamtheiten (A-B und C-D) bilden, die jeweils eine erste und eine zweite Gruppe (A, B und C, D) umfassen, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß es darin besteht, daß die ersten Impulsfolgen mit verschiedenen Phasen (?1, ?2, ?3, ?4) angelegt werden, derart, daß, wenn die erste Gruppe (A, C) in einer Phase der halbselektiven Adressierung (T1) ist, die entsprechende zweite Gruppe (B, D) in einer Phase der selektiven Adressierung (T2) ist und umgekehrt, und daß die ersten Impulsfolgen an die ersten Gruppen (A, C) einer jeden Gesamtheit mit einer Phasendifferenz (? ?2) angelegt werden, welche im wesentlichen gleich der oder gröber als die Dauer (? CI) eines Beschreib-Rechteckimpulses (CI) ist.

Method of control of a plasma panel according to Claim 6, a plasma panel in which the said address-hold electrodes (Y1 to Y8) form at least two assemblies (A-B and C-D) each including a first and a second group (A,B and C,D), the said method being characterised in that it consists in applying the first sets of pulses with different phases (?1, ?2, ?3, ?4) such that when a first group (A, C) is in a semi-selective addressing phase (T1) the second corresponding group (B, D) is in a selective addressing phase (T2) and vice versa, and in that the first sets of pulses are applied to the first groups (A, C) of each assembly with a phase difference (? ?2) substantially equal to or greater than the duration (? CI) of a write strobe (CI).

Verfahren zum Steuern einer Plasmatafel gemäß einem der Ansprüche 6 oder 8, wobei in der Plasmatafel die Nuraufrechterhaltungselektroden (E1 bis E8) in ebensoviele Netze (R1E, R2E) unterteilt sind, wie mit den Adressierungs- und Aufrechterhaltungselektroden (Y1 bis Y8) gebildete Gesamtheiten (A-B, C-D) vorhanden sind, wobei jedes Netz den beiden Gruppen (A, B und C, D) einer Gesamtheit (A-B, C-D) gemeinsam ist, wobei das Verfahren dadurch gekennzeichnet ist, daß es darin besteht, daß die zweiten Impulsfolgen an die verschiedenen Elektrodennetze (R1E, R2E) mit verschiedenen Phasen (?'1, ?'2) angelegt werden.

Method of control of a plasma panel according to either of Claims 6 and 8, a plasma panel in which the hold-only electrodes (E1 to E8) are separated into as many arrays (R1E, R2E) as there are assemblies (A-B, C-D) formed with the address-hold electrodes (Y1 to Y8), each array being common to the two groups (A, B and C, D) of an assembly (A-B, C-D), the said method being characterised in that it consists in applying the second sets of pulses to the various arrays (R1E, R2E) of electrodes with different phases (?'1, ?'2).