Ionenimplantation

Ionenimplantation

Ion implantation

b) Herstellungsausrüstung für die Ionenimplantation mit Strahlströmen größer/gleich 5 mA;

ion implantation production equipment having beam currents of 5 mA or more;

b) Ausrüstung, konstruiert für Ionenimplantation, mit einer der folgenden Eigenschaften:

Equipment designed for ion implantation, having any of the following:

G)Ionenimplantation | Hochwarmfeste Lagerstähle | Zusatz von Chrom, Tantal oder Niob (Columbium) |

G.Ion Implantation | High temperature bearing steels | Additions of Chromium Tantalum or Niobium (Columbium) |

Anmerkung:Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.

Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.

Zunächst liegt der Fokus auf drei Geschäftsfeldern: 1. Ionenimplantationsservice * Ionenimplantation von Nieder- bis Hochenergie für Dotierung in der Halbleiterindustrie * Hochenergieimplantation für des Defect Engineering in Leistungshalbleiter-Bauelemente * Service als "Second Source" im Bereich Ionenimplantation für die Halbleiterindustrie * Plasma Immersions Ionenimplantation für Forschung und Service in den Bereichen Photovoltaik, Automotive- und Luftfahrtindustrie, Medizintechnik und Maschinenbau 2. Waferprozessierung für Sensorik und Detektoren 3. Technologietransfer von Forschungsergebnissen und Technologieentwicklungen des HZDR

Initially, the focus is on three areas: 1 Ion implantation service * ion implantation of low-to high-energy for doping in the semiconductor industry * High energy implantation of the defect engineering in semiconductor power devices * Service as a "second source" in the field of ion implantation for the semiconductor industry * plasma immersion ion implantation for research and service in the fields of photovoltaic, automotive - and aerospace industry, medical engineering and second Wafer processing for sensors and detectors third Technology transfer of research results and technology developments of HZDR

Anmerkung:Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.

Note:2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment, specially designed for cutting or machining tools.

Anmerkung: Nummer 2B005 erfasst nicht Ausrüstung für chemische Beschichtung aus der Gasphase, Bogenentladungs-Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Kathodenzerstäubungs-Beschichtung, Ionenplattierung oder Ionenimplantation, besonders konstruiert für Schneidwerkzeuge oder für Werkzeuge zur spanenden Bearbeitung.

Note: 2B005 does not control chemical vapour deposition, cathodic arc, sputter deposition, ion plating or ion implantation equipment specially designed for cutting or machining tools.