Zyklotron

Die Slowakei ist u. a. auf das Siebte Rahmenprogramm angewiesen, um den Bau und die Entwicklung eines Zyklotron-Therapiezentrums fertig zu stellen.

Slovakia is relying on the Seventh Framework Programme, among other things, to complete the construction and deployment of a Cyclotron Therapy Centre.

Plasmagerät mit einer Plasmakammer (1), einer Einrichtung (1b,1c,2) zum Einlassen von Mikrowellen-Energie in die Plasmakammer (1), einer Einrichtung (1g) zum Zuführen eines Arbeitsgases in die Plasmakammer, einer um die Plasmakammer (1) herum angeordneten Erregerspule (4) zum Erzeugen eines Magnetfeldes, mittels dessen in Kombination mit der Mikrowellen-Energie ein Plasma durch Elektron-Zyklotron-Resonanz innerhalb der Plasmakammer (1) erzeugt wird, einer Probenkammer (3), die mit der Plasmakammer durch ein Plasmaauslaßfenster (1d) verbunden ist, einer in der Probenkammer (3) angeordneten Probenbühne (5), die eine Probe (100) gegenüber dem Plasmaauslaßfenster (1d) in einer im wesentlichen senkrecht zur Achse der Erregerspule (4) verlaufenden Ebene hält, wobei das von der Erregerspule (4) erzeugte Magnetfeld in die Probenkammer (3) divergiert, wodurch das Plasma zum Einwirken auf die Probe (100) in die Probenkammer eingeführt wird, wobei das Gerät ferner eine Dauermagnetvorrichtung aufweist, die versehen ist mit einem aus paramagnetischem Material bestehenden scheibenförmigen Teil (26f), das koaxial mit der Erregerspule (4) an der dem Plasmaauslaßfenster (1d) entgegengesetzten Seite der Probe (100) angeordnet ist, einem stabförmigen Dauermagneten (26d) und einem ringförmigen Dauermagneten (26e), die jeweils koaxial mit dem scheibenförmigen Teil angeordnet sind und einen ersten Pol, der in Kontakt mit diesem ist, und einen zweiten Pol haben, der zu der Probe (100) hin gerichtet ist, wobei die zweiten Pole des stabförmigen Magneten und des ringförmigen Magneten von entgegengesetzter Polarität sind, so daß die axiale Komponente der Magnetflußdichte in einem dem Plasmaauslaßfenster (1d) zugewandten Umfangsrandbereich der Probenoberfläche größer ist als in einem mittleren Bereich der Probenoberfläche.

A plasma apparatus comprising a plasma chamber (1), means (1b,1c,2) for admitting microwave power to the plasma chamber (1), means (1g) for supplying a working gas to the plasma chamber, an exciting coil (3) disposed around the plasma chamber (1) for generating a magnetic field, by means of which, in combination with the microwave power, a plasma is generated by electron cyclotron resonance within the plasma chamber (1), a sample chamber (3) communicating with the plasma chamber by means of a plasma outlet window (1d), a sample stage (5) disposed in the sample chamber (3) for supporting a sample (100) opposite the plasma outlet window (1d) in a plane substantially normal to the axis of the exciting coil (4), the magnetic field generated by the exciting coil (4) diverging into the sample chamber (3), whereby the plasma is introduced into the sample chamber to act upon the sample (100), the apparatus further comprising a permanent magnet assembly having a discshaped member (26f) of para-magnetic material disposed coaxially with said exciting coil (4) on the side of the sample (100) opposite to the plasma outlet window (1d), a rod-like permanent magnet (26d) and an annular permanent magnet (26e) each disposed coaxially with the disc-shaped member and having a first pole in contact therewith and a second pole directed towards the sample (100), the said second poles of the rod-like magnet and the annular magnet being of opposite polarity, so that the axial component of the magnetic flux density in a peripheral edge portion of the sample surface facing the plasma outlet window (1d) is greater than in a central portion of the said sample surface.

Plasmagerät mit einer Plasmakammer (1), einer Einrichtung (1b,1c,2) zum Einlassen von Mikrowellen-Energie in die Plasmakammer (1), einer Einrichtung (1g) zum Zuführen eines Arbeitsgases in die Plasmakammer, einer um die Plasmakammer (1) herum angeordneten Erregerspule (4) zum Erzeugen eines Magnetfeldes, mittels dessen in Kombination mit der Mikrowellen-Energie ein Plasma durch Elektron-Zyklotron-Resonanz innerhalb der Plasmakammer (1) erzeugt wird, einer Probenkammer (3), die mit der Plasmakammer durch ein Plasmaauslaßfenster (1d) verbunden ist, einer in der Probenkammer (3) angeordneten Probenbühne (5), die eine Probe (100) gegenüber dem Plasmaauslaßfenster (1d) in einer im wesentlichen senkrecht zur Achse der Erregerspule (4) verlaufenden Ebene hält, wobei das von der Erregerspule (4) erzeugte Magnetfeld in die Probenkammer (3) divergiert, wodurch das Plasma zum Einwirken auf die Probe (100) in die Probenkammer eingeführt wird, wobei das Gerät ferner eine Dauermagnetvorrichtung aufweist, die versehen ist mit einem stabförmigen Polstück (6d, 16d), das auf der Achse der Erregerspule (4) angeordnet ist, einem ringförmigen Polstück (6e,16e), das koaxial mit dem stabförmigen Polstück angeordnet ist, und mehreren Dauermagneten (6f, 16f), die in dem Raum zwischen dem stabförmigen Polstück und dem ringförmigen Polstück angeordnet und so ausgerichtet sind, daß ihre sämtlichen Pole einer ersten Polarität in Kontakt mit dem stabförmigen Polstück sind und ihre sämtlichen Pole der entgegengesetzten Polarität in Kontakt mit dem ringförmigen Polstück sind, wobei die Dauermagnetvorrichtung an der dem Plasmaauslaßfenster (1d) entgegengesetzten Seite der Probe (100) so angeordnet ist, daß die axiale Komponente der Magnetflußdichte in einem dem Plasmaauslaßfenster (1d) zugewandten Umfangsrandbereich der Probenoberfläche größer ist als in einem mittleren Bereich der Probenoberfläche.

A plasma apparatus comprising a plasma chamber (1), means (1b,1c,2) for admitting microwave power to the plasma chamber (1), means (1g) for supplying a working gas to the plasma chamber, an exciting coil (3) disposed around the plasma chamber (1) for generating a magnetic field, by means of which, in combination with the microwave power, a plasma is generated by electron cyclotron resonance within the plasma chamber (1), a sample chamber (3) communicating with the plasma chamber by means of a plasma outlet window (1d), a sample stage (5) disposed in the sample chamber (3) for supporting a sample (100) opposite the plasma outlet window (1d) in a plane substantially normal to the axis of the exciting coil (4), the magnetic field generated by the exciting coil (4) diverging into the sample chamber (3), whereby the plasma is introduced into the sample chamber to act upon the sample (100), the apparatus further comprising a permanent magnet assembly having a rodlike pole-piece (6d,16d) disposed on the axis of said exciting coil (4), an annular pole-piece (6e,16e) disposed coaxially with said rod-like pole-piece and a plurality of permanent magnets (6f,16f) disposed in the space between the rod-like pole-piece and the annular pole-piece and aligned so that all their poles of a first polarity are in contact with the rod-like pole-piece and all their poles of the opposite polarity are in contact with the annular pole-piece, said permanent magnet assembly being disposed on the side of the sample (100) opposite to the plasma outlet window (1d), so that the axial component of the magnetic flux density in a peripheral edge portion of the sample surface facing the plasma outlet window (1d) is greater than in a central portion of the said sample surface.

Zyklotron nach Anspruch 5, bei dem das Bindungsmaterial ein warmhärtendes Harz ist.

The cyclotron of claim 5, wherein said bonding material is a thermosetting resin.

Zyklotron nach Anspruch 5, bei dem das Schicht-Isolatormaterial ein Polymerfilm und das Bindungsmaterial ein warmhärtendes Harz ist.

The cyclotron of claim 5, wherein said sheet insulator material is a polymer film and said bonding material is a thermosetting resin.

Es kann aber eine Drifbewegung in Längsrichtung der Magnetfeldanordnung angenommen wer­ den, die auf die starke Abnahme des -Feldes oberhalb und unterhalb der Zyklotron-Resonanz-Fläche zurückgeht.

However, a drive movement lengthwise of the magnetic field arrangement can be assumed, which is due to the great decrease of the B field above and below the cyclotron resonance surface.