lithographic

Lithographic Sheet

Lithoblech

Antiquarian lithographic strike after the etching.

Antiquarische lithographischen Streik nach der Radierung.

Diffractive optics can be viewed as an approach to the fabrication of optical components, which is optimized for the application of lithographic techniques. As described in the previous chapters, in refractive optical elements (ROEs) the light is manipulated by analog phase elements of considerable thickness (in relation to the optical wavelength). We have seen that even for microoptical elements with diameters of only tens to hundreds of micrometres, phase structures with thicknesses > 10 μm are necessary for the implementation of refractive microlenses

Beugungsoptik kann als Ansatz für die Herstellung von optischen Komponenten, die für die Anwendung von lithographischen Techniken optimiert angesehen werden. Wie in den vorherigen Kapiteln beschrieben, in der refraktiven optischen Elementen (ROEs) das Licht wird durch analoge Phasenelemente von erheblicher Dicke (in Bezug auf die optische Wellenlänge) manipuliert. Wir haben gesehen, dass selbst für mikrooptische Elemente mit Durchmessern von nur einigen zehn bis hunderten von Mikrometern, Phasenstrukturen mit Dicken> 10 um sind für die Durchführung der erforderlichen Mikrolinsen refraktiven

I also can’t open them but our lithographic department can.

Ich kann auch nicht öffnen, aber unsere lithographischen Abteilung kann.

3D003Physics-based simulation "software" specially designed for the "development" of lithographic, etching or deposition processes for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor materials.

3D003"Physik-basierende" (physics-based) Simulations"software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" von lithografischen Prozessen, Ätz- oder Abscheidungsprozessen für das Übertragen von Maskenmustern in spezifische topografische Muster von Leiterbahnen, dielektrischen oder Halbleitermaterialien.

"Physics-based" simulation "software" specially designed for the "development" of lithographic, etching or deposition processes for translating masking patterns into specific topographical patterns in conductors, dielectrics or semiconductor materials.

"Physik-basierende" (physics-based) Simulations"software", besonders entwickelt für die "Entwicklung" von lithografischen Prozessen, Ätz- oder Abscheidungsprozessen für das Übertragen von Maskenmustern in spezifische topografische Muster von Leiterbahnen, dielektrischen oder Halbleitermaterialien.

DIRECT POSITIVE LITHOGRAPHIC PLATE

DIREKT POSITIV ARBEITENDE LITHOGRAPHISCHE DRUCKPLATTE

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